上海载德半导体/宏腾微电子技术有限公司

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RTP-100/150真空快速退火炉

产品详情

产地:德国尤尼坦、法国

型号:RTP-100/RTP-150;


RTP-100 / RTP-150为德国进口的高品质快速退火炉。台式设计,配备了人机界面,全自动控制,优异的温控均匀性和热处理重现性,适合科研及工艺开发。

RTP-100适合4英寸晶圆或者100mm x 100mm尺寸的样品退火,RTP-150适合6英寸晶圆或者156mm x 156mm尺寸的样品退火。


技术规格:

- 最高温度:1200摄氏度(RTP-100),1000摄氏度(RTP-150);

- 升温速率:150摄氏度/秒(RTP-100),75摄氏度/秒(RTP-150);

- 降温速度:200摄氏度/分钟 (1000摄氏度-->400摄氏度);

- 温控均匀性: 1.5%设定温度;

- 加热方式:红外卤素灯,顶部及底部加热;

- 灯管数量及功率:18支/20千瓦(RTP-100),24支/21千瓦(RTP-150);

- 腔体冷却:水冷方式;

- 衬底冷却:氮气吹扫;

- 工艺气路:MFC控制,最多4路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等);

- 主机尺寸及重量:505mm x 504mm x 420mm (W x D x H),约55Kg;


仪器特点:

- 真空快速退火炉,有低真空型号(10-3 hPa)、高真空型号(10-6 hPa);

- 可在不同气氛环境下使用,如惰性气体、氧气、氢氮混合气等;

- 控制方式:SIMATIC, SPS人机界面控制,7英寸触摸屏;

- 可存储50个程序,每个程序最多分为50段控制;

- 全自动智能控制,包括温度、时间、气体流量、真空度、循环水均可自动设置;

- 优异的温控均匀性,极佳的工艺重现性;

- 小尺寸台式设计;


应用领域:

- 离子注入/接触退火;

- 快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);

- 可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同环境下使用;

- SiAu, SiAl, SiMo合金化;

- 低介电材料;

- 晶体化,致密化;

- 太阳能电池片键合;

等等...


参考用户:

中国科学技术大学、西安交通大学、西安电子科技大学、复旦大学、国防科大、华中科大、西安邮电大学、湘潭大学、吉林师大、吉林建筑大学、广西大学、云南大学、广东工业大学、郑州大学、江汉大学、中科院苏州纳米所、中科院半导体所、上海航天804所、中国计量科学研究院、北京航天控制仪器研究所、京东方、武汉光迅、华工正源、武汉锐晶、能华微电子等...


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