光刻机 / 紫外曝光机 Mask Aligner
产地:美国, 韩国;
型号:M 200, M-150;
技术规格:
1) 样品台
X/Y移动范围:+/-10mm ;
Z移动范围:1500um ;
千分尺:0.001”, 0.0001” ;
旋转:+/-3.5° ;
2) 模板尺寸:最大9” X 9” ;
3) 光源尺寸:最大8” X 8” ;
4) 光源功率
紫外:200W, 350W, 500W, 1000W, 2000W ;
深紫外:500W, 1000W, 2000W ;
5) 曝光时间调节器:1 ~ 999秒(精度1秒),0.1 ~ 99.0秒(精度0.1秒);
6) 尺寸:高度(940mm) X 宽度(788mm) X 深度(635mm);重量:250磅;
仪器特点:
1) 模板夹具、衬底夹具,易于更换;
2) 对准精度:优于1um;
3) 选配的背面光刻对准精度:3-5um;
4) 紫外光源波长可快速改变;
5) 曝光强度控制精度:+/-2%;
6) 可以选配纳米压印模块(NIL);
7) 可以选配微流控模块;
应用领域:
1) MEMS ;
2) 纳米压印(NIL) ;
3) 微流控(Microfluidics);
4) 纳米技术;
5) II-VI及III-V半导体器件制造;
6) 光刻工艺;
7) LCD及FED显示;
8) MCM’s ;
9) 薄膜器件;
10)太阳能电池;
11) SAW器件;
参考用户:
广东工业大学等..