光刻机 / 紫外曝光机 Mask Aligner
产地：美国, 韩国;
型号：M 200, M-150;
技术规格：
1) 样品台
X/Y移动范围：+/-10mm ;
Z移动范围：1500um ;
千分尺：0.001”, 0.0001” ;
旋转：+/-3.5° ;
2) 模板尺寸：最大9” X 9” ;
3) 光源尺寸：最大8” X 8” ;
4) 光源功率
紫外：200W, 350W, 500W, 1000W, 2000W ;
深紫外：500W, 1000W, 2000W ;
5) 曝光时间调节器：1 ~ 999秒(精度1秒)，0.1 ~ 99.0秒(精度0.1秒)；
6) 尺寸：高度(940mm) X 宽度(788mm) X 深度(635mm)；重量：250磅；
仪器特点：
1） 模板夹具、衬底夹具，易于更换；
2） 对准精度：优于1um；
3） 选配的背面光刻对准精度：3-5um；
4） 紫外光源波长可快速改变；
5） 曝光强度控制精度：+/-2%；
6） 可以选配纳米压印模块(NIL)；
7） 可以选配微流控模块；
应用领域：
1） MEMS ;
2） 纳米压印(NIL) ;
3） 微流控(Microfluidics);
4） 纳米技术；
5） II-VI及III-V半导体器件制造；
6） 光刻工艺；
7） LCD及FED显示；
8） MCM’s ;
9） 薄膜器件；
10）太阳能电池；
11） SAW器件；
参考用户：
广东工业大学等..
